上海大学学报(自然科学版) ›› 1995, Vol. 1 ›› Issue (2): 170-176.

• 论文 • 上一篇    下一篇

电沉积金属铬过程中阴极反应机理的研究

成旦红,郭鹤桐   

  1. 上海大学
  • 出版日期:1995-04-30 发布日期:1995-04-30

  • Online:1995-04-30 Published:1995-04-30

摘要: 采用电化学阻抗、阴极极化曲线等测试技术,考察了铬酸溶液中金属铬的电沉积过程,实验证实了镀铬阴极过程中表面吸附膜的存在,它改变了阴极表面的状态,导致阴极极化曲线上出现电流峰,迫使阴极电位负移,为金属铬的电沉积创造了条件。电化学阻抗测量发现,在Nyquist图上出现一个代表吸附膜的“感抗圈”,据此,推导了表面膜电阻的大小,并探讨了H2SO4对阴极表面吸附膜电阻大小的影响。

关键词: 电沉积, 电化学阻抗, 镀铬, 阴极反应

中图分类号: